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經鉻酸陽極氧化得到的陽極氧化膜厚度為2μm~5μm，硬陽處理空隙率低，膜層質軟，耐磨性較差，由於鋁的溶解少，形成陽極氧化膜陽極處理後，零件仍能保持原來的精度和表面粗糙度，故該工藝適用於精密零件。表1是鉻酸陽極氧化工藝規範。
(一)鉻酉干的質量濃度
鉻配含量過高或過低，陽極氧化能力都降低，但稍微偏高是允許的。鉻配含量過低的電解液不穩定。會造成膜層質量下降。
(二)雜質
在鉻酸陽極氧化電解液中的氯離子、硫酸根離子和三價鉻離子都是有害的雜質。氯離子會引起零件的蝕刻；硫酸根離子數量的增加會使陽極氧化膜從透明變為不透明，並縮短鉻酸液的使用壽命；三價鉻離子過多會使陽極氧化膜變得暗而無光。
(三)電壓
在陽極氧化開始的15min內，使電壓從0V逐漸升至40V電鍍，每次上升不超過5V，以保持電流在規定的範圍內，當槽鋁表面處理電壓達40V後，一直保持到陽極氧化結束。
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